一、什么是半導(dǎo)體純水設(shè)備？

傳統(tǒng)的超純水設(shè)備是電滲析、離子交換器(陽(yáng)床、陰床、復(fù)床、混床)。新型半導(dǎo)體超純水設(shè)備是EDI(連續(xù)電除鹽技術(shù))設(shè)備，可以有效的去除水中幾乎全部的陰陽(yáng)離子，出水電阻率可穩(wěn)定在15MΩ.CM以上，連續(xù)運(yùn)行、無(wú)化學(xué)污染、水的利用率高，在純水設(shè)備工藝上有著強(qiáng)大的優(yōu)勢(shì)廣闊的應(yīng)用前景。

EDI+反滲透設(shè)備適合于工業(yè)高純水，醫(yī)用超純水，電子反滲透純水系統(tǒng),電子工業(yè)用超純水系統(tǒng),電鍍工業(yè)用超純水系統(tǒng),實(shí)驗(yàn)室用超純水,食品飲料用超純水,生物工程超純水,制造業(yè)用超純水。

在晶體管和集成電路的半導(dǎo)體行業(yè)生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于制備藥液、硅氧化的水蒸氣源、一些設(shè)備的冷卻水、制備電鍍液等。集成電路生產(chǎn)中80%的工序都需要用高純水來(lái)清洗硅片，水質(zhì)的好壞與集成電路產(chǎn)品的質(zhì)量和生產(chǎn)量有很大關(guān)系。在電子元器件的生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗水和用于配制各種溶液、漿液，不同的電子元器件在生產(chǎn)中對(duì)純水和水質(zhì)的要求是不同的。

半導(dǎo)體純水設(shè)備主要由預(yù)處理、反滲透、EDI模塊和后處理裝置組成，可以有效去除原水中的懸浮物、膠體、細(xì)菌、金屬離子等雜質(zhì)，出水電阻率可以達(dá)到18兆歐以上，完全滿足半導(dǎo)體行業(yè)用水需求。

二、半導(dǎo)體純水設(shè)備工藝

1、預(yù)處理-反滲透-水箱-陽(yáng)床-陰床-混合床-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-精密過(guò)濾器-用水對(duì)象

2、預(yù)處理-一級(jí)反滲透-加藥裝置(PH調(diào)節(jié))-中間水箱-第二級(jí)反滲透-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過(guò)濾器-用水對(duì)象

3、預(yù)處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過(guò)濾器-用水對(duì)象

4、預(yù)處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制拋光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密過(guò)濾器-用水對(duì)象(新工藝)

三、半導(dǎo)體純水設(shè)備優(yōu)勢(shì)

1、整體化程度高、易于擴(kuò)展、增加膜數(shù)量即可增加處理量。

2、自動(dòng)化程度高，遇故障立即自停，具有自動(dòng)保護(hù)功能。

3、膜組件為復(fù)合膜卷制而成，表現(xiàn)出高的溶質(zhì)分離率和透過(guò)速率。

4、能耗低、水利用率高、運(yùn)行成本低。

5、結(jié)構(gòu)合理，占地面積少。

6、膜保護(hù)系統(tǒng)，在設(shè)備關(guān)機(jī)，淡化水可自動(dòng)將膜面污染物沖洗干凈，延長(zhǎng)膜壽命。

7、系統(tǒng)無(wú)易損部件，無(wú)須大量維修，運(yùn)行長(zhǎng)期有效。

8、設(shè)備設(shè)計(jì)有膜清洗系統(tǒng)用阻垢系統(tǒng)。

半導(dǎo)體純水設(shè)備性能優(yōu)勢(shì)明顯，能夠連續(xù)穩(wěn)定的制備品質(zhì)優(yōu)良的超純水，不會(huì)因?yàn)闃渲偕Ｖ惯\(yùn)行，超純水裝置結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)相對(duì)靠緊，占地面積小，可以為企業(yè)節(jié)省很多空間。創(chuàng)聯(lián)凈化是專業(yè)的半導(dǎo)體純水設(shè)備生產(chǎn)廠家，有需要咨詢半導(dǎo)體純水設(shè)備價(jià)格可聯(lián)系厲經(jīng)理 13814806794

原文標(biāo)題：半導(dǎo)體純水設(shè)備特點(diǎn)是什么？

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