低能耗半導體功率器件廢水處理

一、廢水項目概述

某功率半導體有限公司主要產(chǎn)生如下：含氟清洗廢水、研磨清洗廢水、有機廢水（因產(chǎn)水量較少，濃度高，委托第三方處置單位處置）、酸堿廢水，廢水性質主要為清洗廢水，濃度較低，容易處理。廢水經(jīng)過系統(tǒng)處理后達到國家污水綜合排放標準級標準和納管排放。

二、廢水設計技術規(guī)范及相關標準

本污水處理項目的設計，施工與安裝嚴格執(zhí)行國家的專業(yè)技術規(guī)范與標準，其主要規(guī)范與標準如下：

三、廢水水質和水量情況

該廠區(qū)主要廢水生產(chǎn)廢水來源于以下：

3.3、含有機物清洗廢水

有機清洗廢水排放量較少，只為144m3/a，經(jīng)現(xiàn)場收集后委托有資質單位處理處置。

經(jīng)詳細了解，該廢水主要污染物為PH、SS值，廢水性質簡單，水質較穩(wěn)定，未見明顯復雜成分。經(jīng)過化學調整PH和混凝沉淀后，可以保證完全達標。

四、處理出水指標

該生產(chǎn)清洗廢水經(jīng)處理后排放，參考標準為《污水綜合排放標準》GB8978-1996標準，具體監(jiān)測因子及水質指標見下表。

五、

清洗廢水處理工藝

5.1工藝流程圖

5.2  前處理清洗廢水處理工藝方案的選擇與確定

5.2.1含氟廢水工藝說明

含氟清洗廢水進入含氟清洗廢水收集池后，經(jīng)過PH調整、并添加氯化鈣(CaCl2)產(chǎn)生無害的氟化鈣(CaF2)沉淀，經(jīng)投加混凝劑(PAC)、絮凝劑(PAM)進行混凝沉降，總除氟效率達到96%以上。含氟廢水采用氯化鈣作沉淀劑處理工藝，為成熟可靠工藝。

5.2.2研磨廢水處理工藝說明

研磨清洗廢水進入研磨廢水收集池均質后，通過提升泵提升，調整pH值后加入PAC，PAM充分反應后，進入斜管沉淀池，總除SS效率達到90%，處理后廢水經(jīng)pH調節(jié)槽進入排放系統(tǒng)，產(chǎn)生的污泥進入污泥槽，經(jīng)污泥脫水形成泥餅，外運。

5.2.3酸堿廢水處理工藝說明

一般酸堿廢水采用酸堿中和法處理，酸堿廢水經(jīng)管道收集后流入廢水處理站的酸堿廢水收集池；依次進入PH調整池，PH調整池中設計PH在線檢測儀，根據(jù)PH情況，添加堿液后，再投加一定量的PAC和PAM絮凝劑后，進入沉淀池，防止SS值超標。

經(jīng)沉淀后的廢水進入pH調節(jié)槽，經(jīng)檢測合格后（pH值達到6~9范圍內）排入公司生產(chǎn)廢水排水管道。