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蘇州市創(chuàng)聯(lián)凈化設(shè)備有限公司
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水處理設(shè)備廠家

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厲先生:

13814806794

蘇州市創(chuàng)聯(lián)凈化設(shè)備有限公司
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產(chǎn)品分類 Product Categories
2T/h高純水設(shè)備在電子行業(yè)及高純材料清洗用水時(shí),需重點(diǎn)關(guān)注以下技術(shù)要點(diǎn):
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發(fā)往泰州客戶的2T/h高純水設(shè)備,電子級(jí)高純水,高純材料清洗用水等
工藝采用砂碳預(yù)處理+二級(jí)Ro反滲透+EDI,設(shè)備產(chǎn)水電阻率≥10兆歐!
控制系統(tǒng)采用西門(mén)子觸摸屏+PLC全自動(dòng)控制,全套壓力保護(hù)功能,液位控制系統(tǒng),Ro自清洗功能,設(shè)備主機(jī)采用一體機(jī)設(shè)計(jì),結(jié)構(gòu)合理,占地空間小,操作維護(hù)方便!
我司專注于水處理行業(yè)20年,經(jīng)驗(yàn)豐富,專業(yè)定制,廠家直銷(xiāo),群里有水處理設(shè)備需求,歡迎隨時(shí)來(lái)電咨詢。
產(chǎn)品詳情介紹

      2T/h高純水設(shè)備在電子行業(yè)制備電子級(jí)高純水及高純材料清洗用水時(shí),需重點(diǎn)關(guān)注以下技術(shù)要點(diǎn):

      **發(fā)往泰州客戶的2T/h高純水設(shè)備,電子級(jí)高純水,高純材料清洗用水等工藝采用砂碳預(yù)處理+二級(jí)Ro反滲透+EDI,設(shè)備產(chǎn)水電阻率≥10兆歐!控制系統(tǒng)采用西門(mén)子觸摸屏+PLC全自動(dòng)控制,全套壓力保護(hù)功能,液位控制系統(tǒng),Ro自清洗功能,設(shè)備主機(jī)采用一體機(jī)設(shè)計(jì),結(jié)構(gòu)合理,占地空間小,操作維護(hù)方便!

一、**處理工藝

  1. 預(yù)處理系統(tǒng):

    • 多介質(zhì)過(guò)濾器:去除水中泥沙、懸浮物,降低濁度。

    • 活性炭過(guò)濾器:吸附余氯、有機(jī)物,降低COD。

    • 軟化器:通過(guò)離子交換去除鈣鎂離子,防止后續(xù)反滲透膜結(jié)垢。

    • 精密過(guò)濾器:攔截殘留顆粒,保護(hù)反滲透膜。

  2. 雙級(jí)反滲透(RO+RO):

    • 一級(jí)反滲透:脫鹽率≥99%,去除大部分溶解鹽、微生物。

    • 二級(jí)反滲透:進(jìn)一步提升水質(zhì),產(chǎn)水電導(dǎo)率≤5μS/cm(25℃)。

  3. 電去離子(EDI):

    • 利用電場(chǎng)驅(qū)動(dòng)樹(shù)脂連續(xù)再生,深度去除離子,產(chǎn)水電阻率≥15MΩ·cm。

    • 無(wú)需化學(xué)再生,降低運(yùn)行成本。

  4. 終端處理:

    • 紫外線殺菌:滅活微生物,殺菌率≥99.9%。

    • 終端濾膜:0.22μm濾膜確保無(wú)菌,滿足高純材料清洗要求。

    • 二、關(guān)鍵技術(shù)參數(shù)

  5. 產(chǎn)水量:2噸/小時(shí)(25℃,進(jìn)水壓力0.2-0.4MPa)。

  6. 出水水質(zhì):

    • 電導(dǎo)率≤1.3μS/cm(25℃)。

    • 微生物≤10CFU/100ml。

    • 內(nèi)**<0.25EU/ml。

  7. 材質(zhì)要求:

    • 預(yù)處理:UPVC/316L不銹鋼。

    • 后處理:316L不銹鋼(符合GMP標(biāo)準(zhǔn))。

  8. 自動(dòng)化程度:PLC全自動(dòng)控制,支持遠(yuǎn)程監(jiān)控與故障報(bào)警。

三、工藝優(yōu)勢(shì)

  1. 水質(zhì)穩(wěn)定:通過(guò)多級(jí)凈化與在線監(jiān)測(cè),持續(xù)輸出符合標(biāo)準(zhǔn)的高純水。

  2. 連續(xù)制水:EDI模塊實(shí)現(xiàn)24小時(shí)不間斷運(yùn)行,無(wú)需停機(jī)再生。

  3. 環(huán)保節(jié)能:無(wú)酸堿排放,降低化學(xué)藥劑消耗與廢水處理成本。

  4. 模塊化設(shè)計(jì):便于安裝、維護(hù)與升級(jí),適應(yīng)不同規(guī)模需求。

四、應(yīng)用場(chǎng)景

■半導(dǎo)體行業(yè):用于晶元6~12寸切割、清洗、再生、封測(cè)用水、半導(dǎo)體設(shè)備清洗、電子級(jí)無(wú)塵布無(wú)塵服清洗。

■太陽(yáng)能光伏行業(yè):?jiǎn)尉Ч琛⒍嗑Ч枨衅逑础⑻?yáng)能電池、石英坩堝、多晶硅方舟、光伏玻璃、高純硅粉

■LCD、LED、OLED生產(chǎn)清洗用水,光學(xué)攝像頭清洗,光學(xué)材料清洗,導(dǎo)電玻璃清洗;

■半導(dǎo)體集成電路板,線路板生產(chǎn)清洗用超純水;

■鋰電池材料(磷酸鐵鋰、三元材料、鋰電池隔膜)、蓄電池、鋅錳電池生產(chǎn)用水

■電子級(jí)超純化學(xué)試劑用純水,納米級(jí)電子陶瓷材料純水、**磁性材料用純水、有色金屬、貴金屬冶煉用水、航空新材料生產(chǎn)用水、電容器材料腐蝕化成工藝用水。

高純水設(shè)備應(yīng)用

     以上是創(chuàng)聯(lián)凈化小李對(duì)高純水設(shè)備的幾點(diǎn)簡(jiǎn)單介紹,如果需要更詳細(xì)的方案或設(shè)備報(bào)價(jià),歡迎來(lái)咨詢我們呀。

    


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2T/h高純水設(shè)備在電子行業(yè)及高純材料清洗用水時(shí),需重點(diǎn)關(guān)注以下技術(shù)要點(diǎn):
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2T/h高純水設(shè)備在電子行業(yè)及高純材料清洗用水時(shí),需重點(diǎn)關(guān)注以下技術(shù)要點(diǎn):
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2T/h高純水設(shè)備在電子行業(yè)及高純材料清洗用水時(shí),需重點(diǎn)關(guān)注以下技術(shù)要點(diǎn):

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工藝采用砂碳預(yù)處理+二級(jí)Ro反滲透+EDI,設(shè)備產(chǎn)水電阻率≥10兆歐!
控制系統(tǒng)采用西門(mén)子觸摸屏+PLC全自動(dòng)控制,全套壓力保護(hù)功能,液位控制系統(tǒng),Ro自清洗功能,設(shè)備主機(jī)采用一體機(jī)設(shè)計(jì),結(jié)構(gòu)合理,占地空間小,操作維護(hù)方便!
我司專注于水處理行業(yè)20年,經(jīng)驗(yàn)豐富,專業(yè)定制,廠家直銷(xiāo),群里有水處理設(shè)備需求,歡迎隨時(shí)來(lái)電咨詢。
產(chǎn)品詳情介紹

      2T/h高純水設(shè)備在電子行業(yè)制備電子級(jí)高純水及高純材料清洗用水時(shí),需重點(diǎn)關(guān)注以下技術(shù)要點(diǎn):

      **發(fā)往泰州客戶的2T/h高純水設(shè)備,電子級(jí)高純水,高純材料清洗用水等工藝采用砂碳預(yù)處理+二級(jí)Ro反滲透+EDI,設(shè)備產(chǎn)水電阻率≥10兆歐!控制系統(tǒng)采用西門(mén)子觸摸屏+PLC全自動(dòng)控制,全套壓力保護(hù)功能,液位控制系統(tǒng),Ro自清洗功能,設(shè)備主機(jī)采用一體機(jī)設(shè)計(jì),結(jié)構(gòu)合理,占地空間小,操作維護(hù)方便!

一、**處理工藝

  1. 預(yù)處理系統(tǒng):

    • 多介質(zhì)過(guò)濾器:去除水中泥沙、懸浮物,降低濁度。

    • 活性炭過(guò)濾器:吸附余氯、有機(jī)物,降低COD。

    • 軟化器:通過(guò)離子交換去除鈣鎂離子,防止后續(xù)反滲透膜結(jié)垢。

    • 精密過(guò)濾器:攔截殘留顆粒,保護(hù)反滲透膜。

  2. 雙級(jí)反滲透(RO+RO):

    • 一級(jí)反滲透:脫鹽率≥99%,去除大部分溶解鹽、微生物。

    • 二級(jí)反滲透:進(jìn)一步提升水質(zhì),產(chǎn)水電導(dǎo)率≤5μS/cm(25℃)。

  3. 電去離子(EDI):

    • 利用電場(chǎng)驅(qū)動(dòng)樹(shù)脂連續(xù)再生,深度去除離子,產(chǎn)水電阻率≥15MΩ·cm。

    • 無(wú)需化學(xué)再生,降低運(yùn)行成本。

  4. 終端處理:

    • 紫外線殺菌:滅活微生物,殺菌率≥99.9%。

    • 終端濾膜:0.22μm濾膜確保無(wú)菌,滿足高純材料清洗要求。

    • 二、關(guān)鍵技術(shù)參數(shù)

  5. 產(chǎn)水量:2噸/小時(shí)(25℃,進(jìn)水壓力0.2-0.4MPa)。

  6. 出水水質(zhì):

    • 電導(dǎo)率≤1.3μS/cm(25℃)。

    • 微生物≤10CFU/100ml。

    • 內(nèi)**<0.25EU/ml。

  7. 材質(zhì)要求:

    • 預(yù)處理:UPVC/316L不銹鋼。

    • 后處理:316L不銹鋼(符合GMP標(biāo)準(zhǔn))。

  8. 自動(dòng)化程度:PLC全自動(dòng)控制,支持遠(yuǎn)程監(jiān)控與故障報(bào)警。

三、工藝優(yōu)勢(shì)

  1. 水質(zhì)穩(wěn)定:通過(guò)多級(jí)凈化與在線監(jiān)測(cè),持續(xù)輸出符合標(biāo)準(zhǔn)的高純水。

  2. 連續(xù)制水:EDI模塊實(shí)現(xiàn)24小時(shí)不間斷運(yùn)行,無(wú)需停機(jī)再生。

  3. 環(huán)保節(jié)能:無(wú)酸堿排放,降低化學(xué)藥劑消耗與廢水處理成本。

  4. 模塊化設(shè)計(jì):便于安裝、維護(hù)與升級(jí),適應(yīng)不同規(guī)模需求。

四、應(yīng)用場(chǎng)景

■半導(dǎo)體行業(yè):用于晶元6~12寸切割、清洗、再生、封測(cè)用水、半導(dǎo)體設(shè)備清洗、電子級(jí)無(wú)塵布無(wú)塵服清洗。

■太陽(yáng)能光伏行業(yè):?jiǎn)尉Ч琛⒍嗑Ч枨衅逑础⑻?yáng)能電池、石英坩堝、多晶硅方舟、光伏玻璃、高純硅粉

■LCD、LED、OLED生產(chǎn)清洗用水,光學(xué)攝像頭清洗,光學(xué)材料清洗,導(dǎo)電玻璃清洗;

■半導(dǎo)體集成電路板,線路板生產(chǎn)清洗用超純水;

■鋰電池材料(磷酸鐵鋰、三元材料、鋰電池隔膜)、蓄電池、鋅錳電池生產(chǎn)用水

■電子級(jí)超純化學(xué)試劑用純水,納米級(jí)電子陶瓷材料純水、**磁性材料用純水、有色金屬、貴金屬冶煉用水、航空新材料生產(chǎn)用水、電容器材料腐蝕化成工藝用水。

高純水設(shè)備應(yīng)用

     以上是創(chuàng)聯(lián)凈化小李對(duì)高純水設(shè)備的幾點(diǎn)簡(jiǎn)單介紹,如果需要更詳細(xì)的方案或設(shè)備報(bào)價(jià),歡迎來(lái)咨詢我們呀。

    


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