超純水設備用途：

■半導體行業：用于晶元6~12寸切割、清洗、再生、封測用水、半導體設備清洗、電子級無塵布無塵服清洗。

■太陽能光伏行業：單晶硅、多晶硅切片清洗、太陽能電池、石英坩堝、多晶硅方舟、光伏玻璃、高純硅粉

■LCD、LED、OLED生產清洗用水，光學攝像頭清洗，光學材料清洗，導電玻璃清洗； ■半導體集成電路板，線路板生產清洗用超純水；

■鋰電池材料（磷酸鐵鋰、三元材料、鋰電池隔膜）、蓄電池、鋅錳電池生產用水

■電子級超純化學試劑用純水，納米級電子陶瓷材料純水、磁性材料用純水、有色金屬、貴金屬冶煉用水、航空新材料生產用水、電容器材料腐蝕化成工藝用水。

超純水設備參考標準：

電子工業純水系統設計規范                        GB50685-2011

?中國電子級水質技術指標                          GB/T11446.1-2013

?電子級水測試方法通則                            GB/T 11446.3-2013

?電子級水電阻率的測試方法                        GB/T11446.4-2013

?電子級水中痕量金屬的原子吸收分光光度測試方法    GB/T114465-2013

?電子級水中痕量陰離子的離子色譜測試方法          GB/T11446.72013

?電子級水中總有機碳的測試方法                    GB/T 11446.8-2013

?電子級水中微粒的儀器測試方法                    GB/T 11446.9 -2013

?電子級水細菌總數的濾膜培養測試方法              GB/T 11446.10-2013

?美國半導體工業用純水指標

超純水設備常用工藝：